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500L/H 超純水装置 2段RO+EDI超純水システム

この 500 リットル/時間の超純水システムは、成熟した 2 段階の逆浸透と EDI 脱イオンプロセスを採用しています。完成した超純水の比抵抗は 25°C で 10 ~ 18 MΩ・cm に達します。パイプライン全体と主要コンポーネントは 316 ステンレス鋼で構成されており、高い衛生性能と安定した連続水出力を実現します。この装置は、医療、バイオテクノロジー研究室、電子製造、光学部品の製造で広く使用されています。当社は、クライアントの原水の品質とサイトのレイアウトに応じて、0.5 TPH から最大 500 TPH までのカスタマイズされた容量をサポートします。
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製品説明

500L/H超純水装置

製品概要

この 500 リットル/時間の超純水システムは、成熟した 2 段階の逆浸透と EDI 脱イオンプロセスを採用しています。完成した超純水の比抵抗は 25°C で 10 ~ 18 MΩ・cm に達します。パイプライン全体と主要コンポーネントは 316 ステンレス鋼で構成されており、高い衛生性能と安定した連続水出力を実現します。この装置は、医療、バイオテクノロジー研究室、電子製造、光学部品の製造で広く使用されています。当社は、クライアントの原水の品質とサイトのレイアウトに応じて、0.5 TPH から最大 500 TPH までのカスタマイズされた容量をサポートします。

2 段階の RO+EDI プロセス

詳細な技術仕様

アイテム 仕様
製品名 500L/H超純水装置
定格水製造能力 500 リットル/時 (0.5 TPH)
水処理工程 前処理 + 2 段階逆浸透 + EDI 連続脱イオン
出力耐水性 10~18MΩ・cm @ 25℃
主な接点材質 316 ステンレス鋼 (衛生グレード)
システム制御 PLC自動制御、オンライン抵抗率監視、自動警報
使用温度 5~40℃
カスタム容量範囲 0.5 TPH ~ 500 TPH が利用可能
オプションのアップグレード UV滅菌器、限外濾過、TOCモニター、エンドトキシン除去モジュール

応用産業と水の要件

医療およびバイオ医薬品産業 (コアアプリケーション)

医療およびバイオテクノロジーの生産には、水中のイオン、微生物、エンドトキシン、有機汚染物質に対する厳しい要件があります。微量の不純物であっても、実験結果や製品の安全性に影響を与える可能性があります。フル 316 ステンレス鋼の衛生パイプラインを備えた当社の 500L/H 2 段階 RO+EDI 超純水装置は、生物学研究所、製薬研究開発、試薬調製および医療分析試験の高純度水基準を満たしています。

  • 生物学実験室: 細胞培養、分子生物学、PCR、HPLC、質量分析、微生物検査用。低バクテリアと低 TOC により、信頼性が高く再現性のあるラボ試験結果が保証され、ASTM タイプ I 試薬水の要件を満たします。
  • 医薬品および医療用試薬: 原料の希釈、製剤の調製、研究室の洗浄、および医薬品の品質分析用の精製水。 316 ステンレス鋼構造は二次汚染を回避し、エンドトキシンのリスクを軽減し、USP / EP 精製水ガイドラインに準拠しています。
  • 医療機器製造: 精密医療消耗品の洗浄、射出成形、医療部品の表面洗浄。残留イオンを除去して製品の酸化や微生物の残留を防ぎます。
    2 段階 RO+EDI プロセス フロー図

エレクトロニクスおよび半導体製造 (コア アプリケーション)

エレクトロニクス業界は、水中の小さな粒子、溶解イオン、有機物質に非常に敏感です。微量のイオン汚染は、回路の短絡、導電性の低下、製品歩留まりの低下、またはコンポーネントの故障の原因となります。この 2 段階 RO+EDI 超純水システムは、エレクトロニクス製造における精密洗浄プロセスを満たす安定した高抵抗水を提供します。

  • 半導体およびウェーハの製造: ウェーハのウェット エッチング、フォトレジストのリンス、および表面の洗浄。高抵抗の超純水はイオン性汚染物質と微粒子を除去し、微細回路構造を保護します。
  • PCB / FPCプリント基板: エッチング、メッキ、現像工程後の洗浄。イオン残留物、回路腐食、短絡不良を防ぎます。
  • 電子部品および精密部品: コンデンサ、抵抗器、センサー、マイクロエレクトロニクスアセンブリの洗浄。製品の性能を安定させ、完成品の合格率を向上させます。
    2 段階 RO+EDI プロセス フロー図

光学機器製造およびその他の精密産業

光学レンズ、光学ガラス、光学コーティングのワークショップでは、研削と最終表面洗浄に超純水が使用されます。微量イオンや微粒子を除去することで光学面のウォーターマーク、曇り、コーティング欠陥を防止し、高い光透過率と安定した光学性能を確保します。

500L/H RO+EDI 超純水装置の主な利点

  • 2段階RO+EDI複合プロセス、安定した抵抗率10~18MΩ・cm、頻繁な樹脂再生不要、化学薬品の消費量が少なく、環境に優しい。
  • 316 ステンレス鋼の接液部、衛生的なパイプライン設計、滑らかな内面、細菌の付着が少なく、医療および高精度産業に適しています。
  • PLC自動運転、リアルタイムのオンライン水抵抗率監視、異常な水質時の自動保護と警報。
  • 連続 24 時間安定した水の出力により、ノンストップの工業用ワークショップや実験室の操作に適しています。
  • モジュラー設計、簡単な設置、簡単なメンテナンス、小さな設置面積。
  • 柔軟なカスタマイズ: 原水および業界標準の要件に従って、流量を調整し、UV/UF/TOC モニターを追加します。

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